충격! 한국 기술 유출 실태: 5년간 23조 원 피해… 중국, 삼성전자 핵심 기술 탈취

매일경제

최근 한국 기술 유출이 심각한 수준에 이르렀다는 충격적인 사실이 드러났습니다. 지난 5년간 무려 23조 원에 달하는 기술 유출 피해가 발생했으며, 특히 중국의 조직적인 움직임이 한국 기술 탈취의 주범으로 지목되고 있습니다. 중국의 조직적인 기술 탈취 중국 안후이성 허페이시는 2016년 2조 6천억 원을 투입하여 반도체 기업 창신메모리테크놀로지(CXMT)를 설립했습니다. 이 과정에서 삼성전자 연구원 출신인 전 모씨가 중국 A사에 취업했고, A ...더 읽기